Materyèl Filtè pou Mask ak Respiratè
Materyèl Filtè pou Mask ak Respiratè
Avèk teknoloji propriétaires, Medlong bay nouvo jenerasyon materyèl fonn-soufle ki gen gwo efikasite ak ba rezistans pou mask figi ak respiratè, pou ba ou pwodwi inovatè kontinyèl ak solisyon teknik ak sèvis Customized pou pwoteje sante moun.
Avantaj
Rezistans ki ba, Segondè efikasite
Pwa ki ba, pèfòmans ki dire lontan
Konfòmite Biokonpatibilite
Espesifikasyon
Pwa: 10gsm rive 100gsm
Lajè: 100mm jiska 3200mm
Koulè: blan, nwa
Aplikasyon yo
Materyèl fonn-soufle nou yo disponib pou satisfè estanda sa yo.
Mask Medikal
- YY 0469-2011: Estanda mask chirijikal Chinwa
- YY/T 0969-2013: Estanda Chinwa pou jete mask figi medikal
- GB 19083-2010: Mas pwoteksyon figi Chinwa pou itilizasyon medikal
- ASTM F 2100-2019 (nivo 1 / nivo 2 / nivo 3): Nòm mask medikal ameriken an
- EN14683-2014 (Tip I / Tip II / Tip IIR): Nòm Britanik pou mask medikal pou figi
- JIS T 9001:2021 (Klas I / Klas II / Klas III): Estanda mask medikal Japonè yo
Mask Pousyè Endistriyèl
- Estanda Chinwa: GB2626-2019 (N90/N95/N100)
- Nòm Ewopeyen an: EN149-2001+A1-2009 (FFP1/FFP2/FFP3)
- Nòm Etazini: Nòm NIOSH 42 CFR PART 84 Etazini
- Estanda Koreyen: KF80, KF94, KF99
- Nòm Japonè: JIST8151:2018
Mas Pwoteksyon Chak Jou
- GB/T 32610-2016 Espesifikasyon teknik pou Mask Pwoteksyon Chak Jou
- T/CNTAC 55—2020, T/CNITA 09104—2020 Mask Sanitè Sivil
- GB/T 38880-2020 Espesifikasyon teknik pou mask pou timoun
Mas pou Timoun
- GB/T 38880-2020: Estanda Chinwa pou mask pou timoun yo
Done Pèfòmans Fizik
Pou mask ki gen estanda EN149-2001+A1-2009
| Nivo | CTM/TP | M/H | ||||
| Pwa | Rezistans | Efikasite | Pwa | Rezistans | Efikasite | |
| FFP1 | 30 | 6.5 | 94 | 25 | 5.5 | 94 |
| FFP2 | 40 | 10.0 | 98 | 30 | 7.5 | 98 |
| FFP3 | - | - | - | 60 | 13.0 | 99.9 |
| Kondisyon Tès | Lwil parafin, 60lpm, TSI-8130A | |||||
Pou mask ki nan estanda US NIOSH 42 CFR PART 84 oswa GB19083-2010
| Nivo | CTM/TP | M/H | ||||
| Pwa | Rezistans | Efikasite | Pwa | Rezistans | Efikasite | |
| N95 | 30 | 8.0 | 98 | 25 | 4.0 | 98 |
| N99 | 50 | 12.0 | 99.9 | 30 | 7.0 | 99.9 |
| N100 | - | - | - | 50 | 9.0 | 99.97 |
| Kondisyon Tès | NaCl, 60lpm, TSI-8130A | |||||
Pou mask ki gen estanda Koreyen
| Nivo | CTM/TP | M/H | ||||
| Pwa | Rezistans | Efikasite | Pwa | Rezistans | Efikasite | |
| KF80 | 30 | 13.0 | 88 | 25 | 10.0 | 90 |
| KF94 | 40 | 19.0 | 97 | 30 | 12.0 | 97 |
| KF99 | - | - | - | 40 | 19.0 | 99.9 |
| Kondisyon Tès | Lwil Parafin, 95lpm, TSI-8130A | |||||
